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半導(dǎo)體制造行業(yè)

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半導(dǎo)體冷卻傳導(dǎo)與熱管理

1.數(shù)據(jù)中心服務(wù)器/AI超算/GPU芯片

浸沒式冷卻:氟化液(如FC-40、Novec-7200)直接浸沒服務(wù)器硬件,通過高熱傳導(dǎo)性(接近水的熱導(dǎo)率)和低表面張力實(shí)現(xiàn)高效散熱,相比風(fēng)冷節(jié)能85%以上,PUE值可降至1.1以下。

動(dòng)態(tài)冷卻:在芯片老化測(cè)試中,氟化液快速吸收瞬態(tài)熱負(fù)荷,確保測(cè)試精度和設(shè)備穩(wěn)定性。

2.半導(dǎo)體Chiller冷卻機(jī)

作為制冷劑用于光刻機(jī)、蝕刻機(jī)等設(shè)備的恒溫控制(±0.1℃精度),其熱穩(wěn)定性(液程范圍-57~165℃)確保極端溫度下的可靠運(yùn)行。

3.等離子蝕刻(Plasma Etching)與CVD設(shè)備

電極冷卻:氟化液(如FC-40)通過單相或雙相循環(huán)冷卻電極,防止高溫等離子體導(dǎo)致的設(shè)備變形,其不導(dǎo)電特性避免電路短路。

反應(yīng)腔體控溫:在化學(xué)氣相沉積(CVD)中維持反應(yīng)溫度均勻性,材料兼容性(與金屬/塑料兼容)減少設(shè)備腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。

4.離子注入機(jī)與測(cè)試設(shè)備

氟化液(如Novec-7100)用于冷卻高能離子束生成部件,其化學(xué)惰性防止與敏感元件發(fā)生反應(yīng)。

5.單/雙相冷卻系統(tǒng)

單相系統(tǒng):FC-40憑借窄沸程(成分穩(wěn)定)和高介電強(qiáng)度,用于半導(dǎo)體冷板冷卻,減少流體損失。

雙相系統(tǒng):Novec-7200通過蒸發(fā)-冷凝循環(huán)被動(dòng)散熱(無需額外能耗),適用于高密度GPU礦機(jī)和AI芯片散熱。

6.熱管與微通道冷卻

低表面張力特性使氟化液滲透至微觀縫隙,實(shí)現(xiàn)芯片級(jí)精準(zhǔn)散熱覆蓋。

核心特性優(yōu)勢(shì)

1.不導(dǎo)電:高介電強(qiáng)度(如FC-40介電強(qiáng)度>40kV)防止電流泄漏,保障設(shè)備安全。

2.熱穩(wěn)定:寬工作溫度范圍(-90~200℃)適應(yīng)極端環(huán)境,沸點(diǎn)高達(dá)165℃(FC-40)確保高溫不分解。

3.材料兼容性:與金屬、塑料、密封材料兼容,長期使用無腐蝕或溶脹

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半導(dǎo)體晶圓清洗

氣相去污與濕式清潔:Novec-7100/7200混合噴霧用于晶圓表面去污,結(jié)合去離子水浴實(shí)現(xiàn)高效清潔。

潤滑劑沉積與分解:Novec-7200在硬盤制造中分解PFPE潤滑劑,同時(shí)減少蒸氣損失

去除光刻膠殘留與微粒污染

光刻膠殘留:Novec-7200能有效分解氟素油和全氟聚醚(PFPE)潤滑劑,這類物質(zhì)常與光刻膠殘留相關(guān),其高潤濕性可剝離頑固污染物。

微粒污染:Novec-7100通過極性溶解力清除金屬和玻璃表面的顆粒物,而Novec-7200專為微顆粒物質(zhì)(如灰塵、毛纖)和輕質(zhì)油污設(shè)計(jì),尤其適合半導(dǎo)體制程中的輕度臟污。

核心特性優(yōu)勢(shì)

1. 氟化液低表面張力、高強(qiáng)滲透能力的溶劑使其能夠深入晶圓、電子元件等精密結(jié)構(gòu)的微米級(jí)縫隙,實(shí)現(xiàn)無死角清潔。在硬盤潤滑劑沉積(如分解全氟聚醚PFPE)和晶圓傳送盒(FOUP)凈化中表現(xiàn)出色,尤其適用于復(fù)雜幾何形狀的深度沖洗。

2.嚴(yán)格管控離子、金屬和非揮發(fā)性殘留物,配合低表面能涂層(如EGC-1700)可進(jìn)一步防止離子污染,適用于印刷電路板等精密場(chǎng)景。在清洗過程中不會(huì)引入二次污染,同時(shí)符合電子行業(yè)對(duì)離子殘留的嚴(yán)苛要求。




半導(dǎo)體硅片防污、疏水疏油

1.防污特性:通過活性硅烷基團(tuán)與有機(jī)氟基團(tuán)的結(jié)合,UD509、KY-1950信越等型號(hào)可有效防止指紋、墨水污漬附著,且指紋可通過擦拭輕松去除。

2.疏水疏油性:UD509大金等型號(hào)形成疏水疏油表面,保持基材清潔,適用于玻璃、不銹鋼等材質(zhì)。

3.超薄膜保護(hù):KY-1950信越等型號(hào)以納米級(jí)超薄膜涂層覆蓋基材,在實(shí)現(xiàn)防污功能的同時(shí),完整保留基材原有的光學(xué)特性(如透光率)和表面紋理質(zhì)地,避免傳統(tǒng)涂層對(duì)微觀結(jié)構(gòu)的破壞。

4.耐久性:低動(dòng)摩擦系數(shù)設(shè)計(jì)既便于清潔,又能防止擦拭過程中的表面劃傷,延長基材使用壽命。

5.多功能防護(hù):KY-1950信越等型號(hào)作為UV硬化型納米透明涂料原液,兼具防油、防污、耐磨及疏水疏油特性,適用于半導(dǎo)體硅片、電子顯示屏等精密表面。

6.工業(yè)級(jí)穩(wěn)定性:UD509大金等型號(hào)具備抗靜電、耐堿汗及抗UV性能,確保在半導(dǎo)體制造和終端應(yīng)用中長期穩(wěn)定。

核心特性優(yōu)勢(shì)

1.光學(xué)保護(hù):透明涂層不會(huì)改變基材的透光性和反光特性,尤其適合需要維持高光學(xué)性能的半導(dǎo)體器件和顯示組件。

2.紋理兼容性:通過納米級(jí)涂覆技術(shù),在不增加表面厚度的前提下,完整保留硅片或玻璃基材的微觀紋理與觸感,避免因涂層導(dǎo)致的表面粗糙度變化。




半導(dǎo)體/液晶面板中抗靜電特性

1.優(yōu)異的靜電消散性能:FC-4400通過離子液體結(jié)構(gòu)(四級(jí)銨鹽陽離子與亞酰胺陰離子)實(shí)現(xiàn)高效電荷中和,將材料表面電阻降至10^9–10^12 Ω/sq,顯著降低靜電積累風(fēng)險(xiǎn)。這一特性可防止靜電吸附灰塵或顆粒,避免因靜電放電導(dǎo)致的元件損傷。

2.持久性與環(huán)境適應(yīng)性:FC-4400為疏水型離子液體,低含水量使其在低濕度條件下仍保持抗靜電效果,且耐水洗,適用于潔凈室長期使用。此外,其表面電阻在寬濕度范圍內(nèi)穩(wěn)定,適應(yīng)半導(dǎo)體制造中的嚴(yán)格環(huán)境要求。

3.光學(xué)透明性:FC-4400不含金屬和鹵素離子,與聚合物體系兼容性佳,添加量僅需1-5%即可達(dá)到抗靜電效果,且不影響材料透明度,適用于需要光學(xué)性能的液晶面板保護(hù)膜、感壓膠等場(chǎng)景。

4.高溫加工穩(wěn)定性:熔點(diǎn)27℃,熱穩(wěn)定性高達(dá)340℃,可耐受注塑、熱熔擠出等高溫工藝,避免常規(guī)抗靜電劑因分解導(dǎo)致的變色或產(chǎn)氣問題。

5.晶圓載具與托盤:抗靜電塑料通過添加FC-4400,用于制造晶圓盒、光罩盒、真空吸筆等工具,防止靜電在搬運(yùn)、存儲(chǔ)過程中損傷芯片。

6.潔凈室環(huán)境控制:降低塑料部件表面靜電可減少塵埃吸附,避免光刻和蝕刻工序中的微塵污染,提升晶圓良率。

核心特性優(yōu)勢(shì)

1.表面處理與導(dǎo)電填料:相較于摻入金屬粉或炭黑的導(dǎo)電材料,F(xiàn)C-4400通過離子遷移實(shí)現(xiàn)電荷消散,避免影響材料機(jī)械性能,更適合精密電子元件保護(hù)。

2.防靜電液局限性:臨時(shí)性防靜電涂層(如表面吸濕膜)需頻繁補(bǔ)涂,而FC-4400作為內(nèi)添加劑的耐久性更優(yōu),適用于長期使用的塑料部件


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